高性能/科研級/工業(yè)級/微納3D打印機(jī)解決方案及優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商品牌推薦——納糯三維Nanoscr

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　　Quantum X bio生物打印系統(tǒng)具備用生物樹脂材料進(jìn)行活體細(xì)胞打印的需要條件，并保持它們的活性。為您探索更多例如三維組織模型，智能材料或活體材料等激動(dòng)人心的新應(yīng)用保駕護(hù)航。

上左圖：Quantum X bio系統(tǒng)攝像圖像：用于細(xì)胞培養(yǎng)的微孔陣列的3D打印

上右圖：熒光顯微鏡圖像：帶有熒光的NIH 3T3細(xì)胞附著在由IP-S制成的生物相容性支架上，從而進(jìn)行增殖

　　無菌、可溫控的環(huán)境

　　使用基于水凝膠的定制生物樹脂

　　細(xì)胞兼容型波長(780納米)

　　打印后1小時(shí)細(xì)胞存活率>90%(通過活死細(xì)胞染色試劑測得)

　　Quantum X bio系統(tǒng)配備Nanoscribe UX優(yōu)化軟件，經(jīng)驗(yàn)證的 STL模型生物打印庫。結(jié)合在打印過程中對傳感器和視頻數(shù)據(jù)的實(shí)時(shí)監(jiān)控，您能夠輕松獲得的打印結(jié)果，并且直接利用系統(tǒng)的觸控制屏上傳、啟動(dòng)和監(jiān)控打印作業(yè)， 甚至進(jìn)行遠(yuǎn)程操作。

　　納糯三維科技(上海)有限公司（https://www.nanoscribe-solutions.cn/cn/）成立于 2017 年 11 月 8 日，是德國 Nanoscribe 在中國的全資子公司。德國 Nanoscribe 成立于 2007 年，總部位于德國卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司，現(xiàn)隸屬于 LAB14 集團(tuán)，在高精度增材制造領(lǐng)域處于全球領(lǐng)_先地位。

　　技術(shù)實(shí)力：

　　Nanoscribe 公司擁有世界領(lǐng)_先的雙光子無掩模光刻 3D 打印技術(shù)，其 Photonic Professional GT 系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出傳統(tǒng)高精 3D 打印機(jī) 100 倍的三維微納器件，而全新系列 Quantum X 平臺系列更是世_界上第_Y個(gè)基于雙光子灰度光刻(2GL?)的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術(shù)優(yōu)勢，在微納制造技術(shù)方面處于領(lǐng)_先地位。

　　產(chǎn)品與服務(wù)：

　　納糯三維科技在中國市場主要推廣 Nanoscribe 的一系列 3D 打印設(shè)備，如 Quantum X align 系統(tǒng)等，這些設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)等領(lǐng)域。此外，公司還承擔(dān)著系統(tǒng)安裝、維護(hù)及專業(yè)培訓(xùn)等本土化服務(wù)，為中國客戶提供了全面的解決方案。

　　市場地位：

　　Nanoscribe 在全球 30 多個(gè)國家擁有 1500 多名用戶，其中包括哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)等知_名高校。納糯三維科技作為其中國子公司，有助于進(jìn)一步擴(kuò)大 Nanoscribe 在中國市場的影響力，鞏固其在全球微納制造領(lǐng)域的市場地位。

　　【公司定位】納糯三維Nanoscribe作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場，Nanoscribe提供全_方位高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。

　　【公司資質(zhì)】Nanoscribe 的 2GL? 技術(shù)受中國國家專_利保護(hù)(專_利號：CN110573291B)  A2PL技術(shù)受中國國家專_利保護(hù)  ( CN109997081B )

　　【主營業(yè)務(wù)】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進(jìn)封裝、光互聯(lián)納米制造

　　【應(yīng)用領(lǐng)域】微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)

　　【產(chǎn)品優(yōu)勢】Nanoscribe 公司擁有世界領(lǐng)_先的雙光子無掩模光刻 3D打印技術(shù)，全新Quantum X系列具有專_利雙光子灰度光刻(2GL?)，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，A2PL? 技術(shù)支持自動(dòng)檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預(yù)結(jié)構(gòu)化基底上的定位標(biāo)記，并以納米級對準(zhǔn)精度在指定位置直接打印自由曲面光學(xué)元件，確保打印結(jié)構(gòu)與光學(xué)軸嚴(yán)格對齊。

　　【產(chǎn)品評價(jià)】Quantum X align 系統(tǒng)代表了新一代對準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，并具備自動(dòng)對準(zhǔn)能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.

　　【品牌客戶】哈佛大學(xué)，加州理工學(xué)院，牛津大學(xué)，斯圖加特大學(xué)，麻省理工學(xué)院等

　　【技術(shù)領(lǐng)域】3D微納加工、雙光子加工

　　【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe 的技術(shù)在各項(xiàng)關(guān)鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評審的期刊出版物中

　　【咨詢方式】13917994506(韓先生)